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러청 인텔리전스 테크놀로지(쑤저우) 유한회사

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레이저 에칭 장비

초미세 5μm 레이저 에칭 - 반도체 및 FPC를 위한 서브마이크론 정밀도. 2000mm/s 고속 처리—화학 에칭보다 4배 빠르고 폐기물이 없습니다. 200개 이상의 소재 호환성 - 유리부터 티타늄 합금까지, 비접촉식. 지능형 휴먼인터페이스(HMI) 제어 - 자동 초점 및 치사한 사람 통합, ISO 인증.
  • Le Cheng
  • 상하이
  • 3개월
  • 1년 내 50세트

구조적 특징

당사의 레이저 에칭 시스템은 최첨단 엔지니어링을 통합하여 탁월한 성능을 제공합니다.

  1. 매우 안정적인 레이저 소스: 조절 가능한 펄스 지속시간(엔에스/추신/에프에스), 파장 옵션(355nm, 532nm, 1064nm) 및 최대 전력이 50W인 파이버/자외선/피코초 레이저입니다.

  2. 고정밀 모션 시스템: ±1μm의 위치 정확도를 갖춘 에어 베어링 화강암 스테이지와 동적 패터닝을 위한 갈바노미터 스캐닝(7mm²–300mm² 시야)을 결합했습니다.

  3. 지능형 제어 제품군:

    • 실시간 Z축 자동 초점(해상도: 0.1μm)

    • ±5μm 오버레이 정확도를 위한 CCD 비전 정렬

    • DXF, 거버, 비엠피 형식을 지원하는 독점 소프트웨어가 포함된 휴먼인터페이스(HMI)

  4. 다층 환경 제어:

    • 수업 1000 클린룸 호환 인클로저

    • 능동적인 온도-습도 조절(±0.5°C)

    • 헤파 여과 기능을 갖춘 통합형 연기 배출 장치

  5. 모듈식 업그레이드 경로: 옵션으로 3축 회전 스테이지, 현장 프로파일로메트리 또는 멀티 레이저 하이브리드 구성이 가능합니다.

  6. Laser Etching Equipment​


기술적 이점

핵심 기술 우위로 제조를 혁신하세요.

  • 서브 마이크론 정밀도: 회절 한계 빔 성형을 통해 5~20μm의 특징 크기(라 < 0.2μm)를 달성합니다.

  • 비접촉 가공: 취성 재료(예: SiC, 유리)의 도구 마모와 기계적 응력을 제거합니다.

  • 적응형 에너지 제어: 펄스 단위 전력 변조(0.1% 단위로 1~100%)를 통해 다층(예: 이토/애그/애완 동물)의 선택적 제거가 가능합니다.

  • 속도 및 효율성: 50g 가속도로 2000mm/s 스캔 속도; 화학적 에칭보다 4배 빠름.

  • 환경을 고려한 운영: 경쟁사 대비 에너지 소비량이 30% 낮음, 독성 에칭제나 폐수가 발생하지 않음.

precision laser etching

일반적인 응용 프로그램

산업 전반에 걸친 혁신 강화:

부문사용 사례주요 이점
반도체웨이퍼 다이싱, 아이씨 트리밍, 패키지 마킹<10μm 절단 폭, 미세 균열 없음
FPD/주도의FPC 패터닝, OLED 캡슐화 제거, 터치 센서 에칭선택적 절제, 수율 99.9%
태양열퍼크 셀 드릴링(10~20μm 홀), 박막 스크라이빙500홀/초, ±2μm 위치 정확도
의료기기스텐트 텍스처링, 임플란트 미세 홈 가공, 랩온칩 채널 제작생체적합성 표면 개질
첨단 R&D2D 소재 가공, 메타표면 생성, 양자소자 프로토타입 제작나노초 열 화상


사양은 단지 참고용입니다. 모든 장비는 귀하의 요구 사항에 맞게 완벽하게 사용자 정의할 수 있습니다!



  • Locsen과 협력할 경우, 장비 주문부터 공식 생산까지 얼마나 걸리나요?

    전체 제작 기간은 장비 사양 및 생산 라인 규모에 따라 달라집니다. 독립형 장비의 경우, 표준 모델은 45일의 제작 기간이 필요하며, 총 제작 기간(배송 및 설치 포함)은 약 60일입니다. 맞춤형 장비는 기술 요건에 따라 30일이 추가로 소요됩니다. 완벽한 라인 솔루션을 원하시면: • 100MW급 생산라인은 기획, 장비제작, 설치, 시운전까지 약 4개월 소요 • GW급 생산라인은 ~8개월 소요 전담 매니저를 통해 상세한 프로젝트 일정을 제공하여 원활한 조율을 보장합니다. 예시: 고객의 1GW 페로브스카이트 생산 라인은 병행 장비 제작 및 시설 시공을 통해 예정보다 15일 앞당겨 완료되었습니다.
  • Locsen은 스타트업 페로브스카이트 기업에 적합한 장비 및 파트너십 솔루션을 제공합니까?

    로센은 페로브스카이트 스타트업을 위해 특별히 고안된 "단계적 파트너십 프로그램"을 제공합니다. 초기 R&D 단계에서는 기술 검증과 제품 반복을 용이하게 하기 위해 필수 프로세스 패키지와 함께 제공되는 소형 파일럿 규모 장비(예: 10MW 레이저 스크라이빙 시스템)를 제공합니다. 확장 단계에서 스타트업은 업그레이드 혜택을 받을 수 있습니다. • 파일럿 장비의 핵심 모듈은 생산 라인 기계에 대한 가치 공제로 거래될 수 있습니다. • 프로세스 개발 지원 및 실험 데이터 공유를 포함한 선택적 기술 협업 이 프로그램을 통해 여러 스타트업이 초기 투자 위험을 완화하는 동시에 연구실 단계에서 파일럿 생산 단계로 원활하게 전환할 수 있었습니다.
  • Locsen의 장비는 다양한 크기의 페로브스카이트 태양 전지를 처리할 수 있나요? 최대 지원 크기는 얼마인가요?

    로센의 레이저 장비는 뛰어난 크기 호환성을 자랑하며, 10cm×10cm에서 2.4m×1.2m에 이르는 페로브스카이트 태양 전지를 처리할 수 있습니다. 대형 세포 처리(예: 12m×2.4m 강성 기판)의 경우 다중 레이저 헤드 동기화 기능을 갖춘 맞춤형 갠트리형 레이저 시스템을 제공하여 정밀도와 처리량을 모두 보장합니다. • 입증된 성능: 업계 최고 수준의 스크라이빙 정확도(±15μm)와 균일성(>98%)으로 1.2m×0.6m 셀을 성공적으로 처리했습니다. • 모듈형 디자인: 교체 가능한 광학 모듈은 다양한 두께(0.1-6mm)에 적응합니다. • 스마트 교정: 일체 포함 지원 실시간 빔 정렬로 기판 휘어짐을 보상합니다.
  • Locsen은 페로브스카이트 태양 전지의 모든 핵심 생산 단계에 맞춤형 레이저 솔루션을 제공합니까?

    네, Locsen은 페로브스카이트 태양 전지 생산 체인 전체를 포괄하는 포괄적인 레이저 가공 솔루션을 제공합니다. P0 레이저 마킹: 필름 증착 후 세포 식별용 P1/P2/P3 레이저 스크라이빙: 정밀 패터닝 • 투명 전도성 층(P1) • 페로브스카이트 활성층(P2) • 후면 전극(P3) P4 엣지 분리: 단락을 방지하기 위한 마이크론 수준의 엣지 트리밍 탠덤 셀 모듈: 다중 소재 층 가공을 위한 전용 레이저 에칭 시스템 당사의 통합 장비 생태계는 모든 레이저 가공 요구 사항이 충족되도록 보장합니다. • 레이어 전체에 걸쳐 ≤20μm 정렬 정확도 • 5μm 이하로 제어되는 열 영향 구역 • R&D부터 GW 규모 생산까지 지원하는 모듈형 플랫폼
  • 로센 도구는 다양한 페로브스카이트 제형에 대해 어떤 조성 허용 범위까지 지원합니까?

    Locsen의 레이저 시스템은 다양한 페로브스카이트 조성에 대한 탁월한 적응성을 보여줍니다. • 사전 로드된 매개변수: 레이저 레시피 라이브러리에 있는 주류 조성(예: FAPbI₃, 세슘피비아이₃)에 대한 최적화된 설정을 통해 작업자가 즉시 접근할 수 있습니다. • R&D 지원: 새로운 조성(예: 주석 기반 페로브스카이트)에 대해 로센 팀은 다음과 같은 서비스를 제공합니다. 72시간 이내 맞춤 파장/광속 교정 성능 검증<1% PCE degradation post-processing • Smart Compensation: On-board spectroscopy modules monitor reflectivity in real-time, automatically adjusting: Pulse duration (20-500ns) Beam profile (Top-hat/Gaussian) Energy density (0.5-3J/cm²) Technical Highlights: ▸ Tolerance for ±15% stoichiometric variation in Pb:Sn ratios ▸ Support for 2D/3D hybrid phase patterning ▸ Non-contact processing avoids cross-contamination

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